21Q1 年归母净利润同比增长425%，符合市场预期公司21Q1 实现营收6.03 亿元，同比增长46.24%；归母净利润1.38 亿元，同比增长425.36%；扣非归母净利润0.11 亿元，同比扭亏为盈。
其中21Q1 整体毛利率为40.92%，同比增长7.06pct;净利率22.83%，同比增长16.48pct，均呈现良好趋势。
受益于半导体景气度高涨，半导体设备需求较好，且公司产品竞争力突出，呈现供需两旺。由于2020 年11 月，公司实施股权激励，21Q1 增加费用约0.51 亿元，若剔除次费用影响，公司归母净利润测算将达1.89亿元，同比增长近6 倍。
半导体设备需求旺盛，公司刻蚀设备持续高增长分产品看，刻蚀设备实现营收3.48 亿元，同比增长63.75%；MOCVD 设备实现营收1.33 亿元，同比增长76.85%。
CCP 刻蚀设备在逻辑电路方面，成功取得5nm 及以下重复订单；存储方面，在64 层和128 层3D NAND 得到广泛应用，且随着3D NAND 芯片制造厂产能迅速爬升，重复订单稳步增长。ICP 刻蚀新设备已在10 家客户进行验证，2020 开始逐步取得客户重复订单，在国产存储客户扩产带动下，销售取得较大进展。
拟定增100 亿，继续加码高端刻蚀设备生产及研发4 月公告拟定增100 亿元，其中31.7 亿元用于中微产业化基地建设，拟分别扩充等离子体刻蚀设备、MOCVD 设备、热化学CVD 设备、环境保护设备630 腔/年、120 腔/年、220 腔/年、180 腔/年。37.5 亿元用于中微临港总部和研发中心，主要用于128 层及以上3D NAND CCP/ICP刻蚀设备、14 纳米及以下逻辑器件刻蚀设备、7nm 及以下逻辑芯片、17nm及以下DRAM 芯片相关ICP 设备。30.8 亿元用于科技储备资金。
刻蚀设备龙头，给予“增持”评级
公司作为国内刻蚀设备龙头，肩负刻蚀工艺设备全面国产化重任，预计公司净利润分别为5.57/7.34/9.73 亿元，对应PE 分别为100/ 76/ 57倍，给予“增持”评级。
风险提示 产品销售不及预期；市场竞争加剧；国家政策变动。