公司发布2020 年年度业绩预告：预计全年实现归母净利润约1.51 亿元，同比增长约129%，扣非后归母净利润约6150 万元，同比增长约43%。非经常性损益主要系持有的交易性金融资产确认公允价值变动损益约8724 万。Q4 单季度归母净利润预计约3740 万元，受费用拖累影响Q4 扣非归母净利润出现小幅亏损，预计约-350 万元。
抛光液多款新产品放量，收入端实现59%的快速增长：受益于公司前期研发的多款新产品在重要客户的关键制程中使用情况良好，客户端用量上升，公司化学机械抛光液收入同比增长约59%。预计全年公司抛光液收入将达到3.75 亿元收入，公司上半年抛光液实现收入为1.70 亿元，下半年预计突破2.05 亿元，环比增长21%。随着新产品的持续放量，预计公司抛光液收入端将持续快速增长。
Q4 股权激励费用、研发费用、汇兑损失等期间费用增加：公司于2020 年6 月12 日针对核心高管、技术人员等实施股权激励，2020 年股权激励费用2699 万元，其中Q4 为1227 万元。鉴于国际半导体市场大环境的变化及国内主要客户需求的增加，公司第四季度在前三季度的基础上进一步加大研发投入及市场开拓，导致期间费用增长较快。Q4 同时受美元汇率波动影响，公司财务费用增加约700 万元。受此影响，公司Q4扣非后归母净利润出现小幅亏损，预计约-350 万元。
持续高研发投入确保新品有序推进，奠定长期成长基础：2020 年前三季度公司研发支出5805 万元，研发费用率18.80%，预计第四季度研发费用投入力度进一步加大。公司持续高研发投入，保证新品研发的有序推进，奠定公司长期成长基础。逻辑芯片领域，公司铜及铜阻挡层抛光液持续优化已量产的14nm 技术节点及以上产品的性能及稳定性，10nm-7nm 技术节点的技术研发按照计划进行。同时，钨抛光液新产品在逻辑芯片领域也进入客户论证阶段。在存储芯片领域，公司钨抛光液已有多款产品应用到3D NAND 先进制程，并持续优化提升，稳固了公司在存储芯片厂的市场地位。公司与客户共同开发的以二氧化铈为基础的介电材料抛光液已在3D NAND 先进制程中按计划进行验证。在光刻胶去除剂市场，公司铜大马士革工艺光刻胶去除剂已经量产；28nm 技术节点硬掩模工艺光刻胶去除剂验证、14nm 技术节点蚀刻残留物去除剂研究等按计划进行中。
投资建议：因非经常性损益的超预期，我们上调公司2020 年归母净利润至1.51 亿元（原值为1.32 亿元），维持2021-2022 年归母净利润1.42、2.03 亿元的预测，对应PE 分别为114X、121X、85X, 维持“增持”评级。
风险提示：国内半导体投产进度不及预期；客户开拓不及预期